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北京创世威纳紧跟世界技术步伐,不断提供技术先进、性能优良的真空镀膜设备、陀螺镀膜刻蚀设备、半球碗状棒状样品镀膜刻蚀设备、多腔体多功能镀膜设备、化学气相沉积设备、非标定制真空设备、磁控溅射镀膜机、感应耦合等离子刻蚀机、反应离子刻蚀机、离子束刻蚀机、蒸发镀膜机、超高真空排气台、 真空退火炉、真空应用设备及各类真空等离子体设备。产品应用于各研究院所、大专院校、企业单位。客户遍及北京、上海、江苏、南京、广州、深圳、山东、湖北等地。
创世威纳在所有客户、合作伙伴、供应商及各界朋友的支持和帮助下走过了难忘的十年。十年来,我们本着“始于客户需求,终于客户满意”的理念,不断实现技术和产品创新,追求品质和服务。创世威纳真诚地与广大用户和合伙作伴共赢合作,携手共创未来。
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一般来说,在光刻胶涂层和光刻图之后,反应离子刻蚀机使用光刻胶作为覆盖模具,通过物
反应离子刻蚀机具有成熟的技术能力,可将基温保持在50℃以下。深沟可以通过倾斜和旋
是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放由高能电子组成的气体