DISC-SP-3200型磁控溅射镀膜机

名称：DISC-SP-3200型：倾斜共溅射，单片送取样室（Load-Lock）

应用方向：科研与教学

产品优势：倾斜共溅射，单片送取样室（Load-Lock）

产品配置：

★样片数量及尺寸： 1片Ф2英寸~Ф6英寸

★溅射材料：金属；非金属；化合物等薄膜材料。

★溅射腔体：高真空系统。

★Load-Lock：低真空系统 或 高真空系统。单片装，样品自动运送。

★溅射不均匀性：≤±3%-±5％

★磁控靶：2-4支；可调角度

★溅射方向：样品下置（自上而下溅射）或 样品上置（自下而上溅射）

★加热：常规加热，可选高温加热

★电源配置：射频；直流；直流脉冲；直流偏压

★清洗功能：可选配考夫曼离子源

★快速反应溅射功能：可选配Speedflo

★膜厚监控功能：可选配晶控膜厚在线监测与终点控制

★操作模式：全自动+半自动控制

设备详细结构与功能，请咨询销售工程师。