反应离子刻蚀机

反应离子腐蚀技术是一种各种各样很强、可选择性高的干式浸蚀技术性。它是在超滤装置中运用分子结构汽体低温等离子来开展刻蚀的，运用了电离诱发化学变化来完成各种各样刻蚀，就是运用电离动能来使被刻蚀层的表层产生非常容易刻蚀的损害层和推动化学变化，另外电离还可消除表层反应物以外露清理的刻蚀表层的功效。可是该刻蚀技术性不可以得到较高的挑选比，对表层的损害大，有环境污染，无法产生更细致的图型。

一般状况下，反应离子刻蚀机的全部真空泵壁接地装置,做为阳极氧化,负极是输出功率电级,负极侧边的接地装置屏蔽罩可避免输出功率电级遭受无心插柳。要浸蚀的基片放到输出功率电级上。浸蚀汽体依照一定的压力和配搭占比填满全部反映室。对反映腔中的浸蚀汽体,再加超过汽体穿透临界点的高频率静电场,在强静电场功效下,被高频率静电场加快的杂散电子器件与汽体分子结构或分子开展任意撞击,当电子能量大到一定水平时,任意撞击变成非弹性碰撞,造成二次电子发送,他们又进一步与汽体分子结构撞击,持续激起或弱电解质汽体分子结构。这类猛烈撞击造成弱电解质和复合型。当电子器件的造成和消退全过程做到均衡时,充放电能再次不断坚持下去。由非弹性碰撞造成的电离、电子器件以及矿酸基(游离态的分子、分子结构或原子团)也称之为等离子技术,具备较强的有机化学特异性,可与被刻蚀试品表层的分子起化学变化,产生挥发物化学物质,做到浸蚀试品表面的目地。另外,因为负极周边的电场方向垂直平分负极表层,源能电离在一定的压力下,竖直地射向试品表层,开展物理学负电子,促使反映电离刻蚀具备非常好的各种各样。