等离子体化学气相沉积设备生产厂家|厂商|价格|品牌-北京创世威纳科技

PECVD-601型：高性能薄膜制备

应用方向：科研与教学产品优势：高性能薄膜制备产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★沉积材料：包括并不限于硅基（Si）薄膜、碳基（C）薄膜、硅锗合金（SiGe
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PECVD-8100型等离子体化学气相沉积设备

特点：高性能薄膜制备，带有双片样品库（Load-Lock）应用方向：科研与小批量生产产品优势：高性能薄膜制备，带有双片样品库（Load-Lock）产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★沉积材料：包括并不限于硅基（S
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PECVD-802L型等离子体化学气相沉积设备

特点：带单样品送取室（Load-Lock），特别适用P-I-N膜层沉积或类似应用应用方向：科研与教学产品优势：带单样品送取室（Load-Lock），特别适用P-I-N膜层沉积或类似应用产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★沉积材料：包括
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PECVD-4000型等离子体化学气相沉积设备

特点：三个沉积室+单样品送取样室，特别适用P-I-N膜层沉积或类似应用应用方向：科研与小批量生产产品优势：三个沉积室+单样品送取样室，特别适用P-I-N膜层沉积或类似应用产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★沉积材料：包括并不
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