RIE-1201型反应离子刻蚀机

名称：RIE-1201型：大样品刻蚀，选择比高

应用方向：科研与小批量生产

产品优势：大样品刻蚀，选择比高

★样片数量及尺寸：1片12英寸样片

★刻蚀腔体：高真空系统

★刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）

★电源配置：射频电源，包含自动匹配

★终点检测控制：可选配质谱仪

★操作模式：全自动+半自动控制

设备详细结构与功能，请咨询销售工程师。