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DISC-RIE-8101型反应离子刻蚀机
名称:DISC-RIE-8101:氯基专用刻蚀设备,刻蚀速率控制方便,耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速
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DISC-RIE-8100:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock)
名称:DISC-RIE-8100:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带双片送取样室(Load-Lock)应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速率控制方便,
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DISC-RIE-601型反应离子刻蚀机
特点:DISC-RIE-601:刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱气体腐蚀 名称:DISC-RIE-601:刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱气体腐蚀应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀缓慢好控制,耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置:★样片数量及尺
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RIE-5100型反应离子刻蚀机
特点:RIE-5100型:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带单片送取样室(Load-Lock)生产厂家|价格|品牌-北京创世威纳科技 应用方向:科研与教学产品优势:刻蚀速率控制方便,耐氟基或更弱腐蚀性气体,带单片送取样室(Load-Lock)产品配置:★样片数量及尺寸:
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