RIE-400型反应离子刻蚀机

名称：RIE-400型：去胶+修胶+刻蚀，针对大尺寸片状样品

应用方向：批量生产

产品优势：去胶+修胶+刻蚀，针对大尺寸片状样品

产品配置：

★样片数量及尺寸：1片450mm×450mm样片

★刻蚀材料：包括并不限于Si、SiOx、SiNx、部分金属（如W、Mo）、聚合物等

★刻蚀腔体：高真空系统

★刻蚀不均匀性：±3%-±6%

★刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）

★工作台：包含水冷

★电源配置：上下两个射频电源，包含自动匹配

★气路数量与种类：6路耐氟基腐蚀气路 或 用户选配

★He冷背吹系统：可选配

★终点检测控制：可选配质谱仪

★操作模式：全自动+半自动控制

类似产品：大样品刻蚀（ICP-1200）

设备详细结构与功能，请咨询销售工程师。