RIE-5100型反应离子刻蚀机

名称：RIE-5100型：刻蚀速率控制方便，耐氟基或更弱腐蚀性气体，带单片送取样室（Load-Lock）

应用方向：科研与教学

产品优势：刻蚀速率控制方便，耐氟基或更弱腐蚀性气体，带单片送取样室（Load-Lock）

产品配置：

★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蚀材料：包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

★刻蚀腔体：高真空系统

★Load-Lock：低真空系统 或 高真空系统。单片装，样品自动运送。

★刻蚀不均匀性：±3%-±6%

★刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）

★工作台：可升降，包含水冷

★电源配置：下电极偏压，包含自动匹配

★气路数量与种类：4路耐氟基腐蚀气路 或 用户选配

★He冷背吹系统：可选配

★终点检测控制：可选配质谱仪

★操作模式：全自动+半自动控制

类似产品：刻蚀6英寸样片（RIE-601） 

设备详细结构与功能，请咨询销售工程师。