北京创世威纳科技有限公司
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特点： 负角度刻蚀降低反污染，热态、冷态两种中和系统，腔体前后开门 应用方向：科研与教学产品优势：负角度刻蚀降低反污染，热
特点： 负角度片状样品刻蚀，冷态中和系统 应用方向：科研与教学产品优势：负角度刻蚀，冷态中和系统 产品配置：★离子源种类：考夫曼离子源
特点：反应离子束刻蚀设备，离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力应用方向：科研与教学产品优势：离子束物理刻蚀能力+化学反应能力
特点： 负角度片状+棒状样品刻蚀，冷态中和系统，刻蚀大尺寸样品 应用方向：科研与小批量生产产品优势：负角度片状+棒状样品刻蚀，冷态中
特点：反应离子束刻蚀设备，离子束物理刻蚀能力+化学反应能力+化学辅助刻蚀能力 应用方向：科研与教学产品优势：离子束物理刻蚀能力+化学反应能
