离子束刻蚀机知识点科普

- 2021-12-09-

原理：

该方法利用辉光放电原理，将氩气分解为氩离子，通过阳极电场的加速物理轰击样品表面，从而达到刻蚀效果。将电离室充氩，使其电离，因此等离子体形成等离子体，由一个栅极引导离子束并加速，把一定量能量的离子束射入工作室，向固体表面发射一束能量来轰击固体表面的原子。引起物质原子溅射；达到腐蚀的目的，属纯物理腐蚀。

离子束刻蚀机技术参数：

多金属和氧化物等复杂体系的腐蚀等是离子束腐蚀系统的主要应用领域，在物理、生物、化学、材料、电子等领域都有广泛的应用。

配件：6英寸，适用于任何规格的样品。

基本降温温度：5-25℃。

样品平台旋转：旋转9度，倾斜0-90度。

电离能量：100-650电子伏特。

束流密度：每平方厘米0.2-0.7毫安。

均匀性：±5%(4英寸)

离子束刻蚀机的特征。

1.金属及化合物，不含机械和有机物质，绝缘体及半导体均可，腐蚀材料不受腐蚀限制。

2.刻蚀期间，通过改变离子束入射角来控制图形轮廓。

3.有较好的方向性，各向异性，高度陡直。