离子束刻蚀机知识点介绍

离子束刻蚀机是一种高真空的单室离子束蚀刻系统。离子束刻蚀机主要由蚀刻室、考夫曼离子源和电源、水冷样品转盘、泵系统、真空测量系统、气路系统、电气控制系统等组成。

特点：

1.溅射室极限真空度：≤6.6x10-5pa(烘烤除气后)；

2.真空度：≤5pa，系统停泵12小时后关机。

3.国内80毫米考夫曼离子源的刻蚀室。

4.样品台布置在真空室下部，可放置50.8×50.8mm样品3件，样品台可旋转角度。

5.真空测量采用国产复合真空计。

6.国内MFC控制进气系统(AR)配备系统，流量分别为100SCCM。

7.采用涂层工艺压力控制，确保涂层工艺的可靠性、稳定性和重复性。

8.考夫曼离子源配备系统。

离子束刻蚀机功能及组成。

离子束刻蚀机主要由溅射真空室、离子源、水冷基板平台、离子源电源、工作气路、真空采集系统、机器安装、真空测量、水冷报警系统和控制系统组成，可用于金属膜、介质膜蚀刻。

主要组成和技术指标。

溅射室极限真空度：≤6.6x10-5pa(烘烤除气后)；

真空检漏率：5.010-7pa/S；

系统从大气中抽气：溅射室40分钟可达到6.6x10-4pa；

12小时后真空停泵:≤5pa；