北京反应离子刻蚀机详情介绍

  北京反应离子刻蚀机设备简介

   普拉斯马克莱纳为单制程处理空腔，采用先进的平板电浆技术，具有整合型。

   采用多电浆源机构设计的电浆台，适合各种干式清洗和表面处理工艺，以及残余光阻去除等工艺应用。为半导体及光电行业的干式电浆工艺提供高行驶速度及低运行成本的特点。台式小型机，PLC人机自动控制，操作简便，适用于实验室及小批量工业生产中的材料表面清洗、蚀刻、活化等加工过程。

 北京反应离子刻蚀机功能配置有三种：

      1.常规的等离子清洗和等离子腐蚀。

      2.反应性离子腐蚀(RIE)

      3.可转换结构(包括等离子工艺等离子体结构，可实现各向同性和各向异性)的可拆卸的托盘结构。

 北京反应离子刻蚀机技术参数：

     装置类型：PE-200。

     空腔尺寸：长432x深432x高356mm的矩形空腔；

     模腔材料：T-6铝合金一体化成型；

    空腔体积：66.3公升；

    RF电源：13.56MHz,0~300W自动调节；

    工作压力范围：1-2000毫秒；

   气量控制：0-200cc/min的精密针阀；

   Pillani真空计：0-1Torr；

   可选的：

   1.防静电。

   2.工艺温度控制。

   3.600WRF发生器@13.56MHz，自动配网600W。

   4.59CFM真空泵供氧(3级)

   5.信号塔。

   6.MKS型自动节流真空控制器。

   7.2一个质量流量控制器(至多3个)

   8.RIE(反应性离子腐蚀)结构

 以上内容就是北京反应离子刻蚀机详情介绍。