北京离子束刻蚀机的设备参数和用途
北京离子束刻蚀机的设备参数和用途:
北京离子束刻蚀机的设备参数:
(1)采用011DC-PKGASSY“Veeco”离子源,离子束直径11cm,大束流350mA,束流能量50-1500eV。Ar工作气体,热解石墨双栅极配置,等离子桥中和器进行束流中和;
(2)样品台水冷且可实现旋转和倾斜,样品大尺寸φ100mm,工艺过程中表面温度低于100℃,旋转0-9rpm,倾斜0-90°;刻蚀距离:150mm-160nm;
(3)系统极限真空度≤10-4Pa,腔体真空度5×10-4Pa;离子束工作真空度约5×10-4Pa;到达本底真空时间≤30min;
(4)离子源电源:由阴极、阳极、屏栅、加速栅、中和及耦合留个模块组成的全自动组合电源。
北京离子束刻蚀机的主要用途:
该北京离子束刻蚀机采用物理刻蚀的方式,经过电场加速的离子束对任何材料实现各向异性的刻蚀,并可依倾角不同调整侧壁形貌和减少被溅射材料的再沉积污染。
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