蒸发镀膜机的光学电镀的基本原理是什么？

 蒸发镀膜机的光学电镀的基本原理是什么？

 蒸发镀膜机的光学电镀的基本原理是什么？光学电镀是指在光学零件表面镀上金属(或多层)薄膜的过程。光学部件表面镀膜的目的是减少或增加光的反射、束缚、分色、过滤、偏振等。常用的镀膜法有真空镀膜(物理电镀的一种)和化学电镀。

 光干涉在薄膜光学中得到广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是用真空溅射的方式在玻璃基板上涂膜，一般用于控制基板对进射光束的反射率和通过率，满足不同的需要。为了消除光学部件表面的反射损失，提高图像质量，涂抹一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反膜。

 随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透射率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带透射膜的发展。为了各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反射膜、彩色分光膜、冷光膜、干涉滤光膜等。

 光学元器件表面镀膜后，光线在膜层上反射和透射多次，形成多光束干扰，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干膜的基本原理。

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