磁控溅射镀膜机的主要方式是什么？

磁控溅射镀膜机的主要方式是什么？

主要方式是什么？接下来小编为大家介绍一下，希望对大家能有所帮助。

  磁控溅射镀膜机可按其特点分为四大类：(1)直流溅射；(2)射频溅射；(3)磁控溅射；(4)反应溅射.此外，各种离子束源还可用于薄膜的溅射沉积。

  当前直流溅射(又称二次溅射)应用较少，是由于高气压、高电压、低溅射率和膜层不稳定等缺点所致。

  随着直流溅射技术的发展，人们在其表面加入磁场，磁场束缚了自由电子，这些缺点都得到了改善，这也是现阶段广泛采用的一种溅射方法。

  中频溅射的出现，增加了阴极的产率，不易引起放电、目标中毒等现象。

  并且射频溅射是非常高频率的对靶材进行溅射，不易放电，靶材可任意选择金属或陶瓷等材料，沉积膜层致密，粘性好。

  直流溅射是气体放电的前期，射频是后期，我们常说的射频是电焊机.直流溅射是气体放电的前期，射频是电焊机的后期。

  以上就是小编为大家介绍的全部内容，看完文章的你应该有所了解了。

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