离子束刻蚀机特性

       离子束刻蚀机，又称离子切削，是指当高能离子定向撞击固体目标时，能量由进射离子向固体原子的传递。在原子间结合能低于进射离子能量的情况下，固体表面的原子会被移除或从表面移除。常由惰性气体中的离子腐蚀离子束。

离子束的较小直径大约为10微米，离子束刻蚀机组织结构可能不小于10纳米。对离子束蚀，其束点可达100纳米以下，较小线宽可达10纳米，加工结果可达12纳米。相对于电子和固体而言，离子对固体的散射效应较小，而且直写速度可小于50纳米，因此聚焦离子束腐蚀是纳米加工的理想方法。另外，聚焦离子束技术的另一优点是通过电脑控制注入无光度、无显影蚀刻，可直接制作各种纳米零件结构。但在离子束加工中，损伤问题比较突出，离子束的加工精度不易控制，控制精度较差。

      基本用途：

本装置采用物理蚀刻方式，利用电场加速离子束对任意材料进行各向异性蚀刻，可根据倾斜角度调整侧壁形状，减少溅射材料的再沉积污染。

     设备参数：

使用直径11cm的011DC-PKGASSYVeeco离子源，较大波束350mA，能量50-1500eV。工质气体，热解气体，等离子桥中和器束流中和。

水冷试样台面，实现旋转倾斜，试样较大尺寸φ100mm，工艺中试样表面温度低于100℃，旋转0-9度，倾斜0-90度；蚀刻距离：150-160nm。

系统限值真空度≤10-4帕，5×10-4帕的空腔真空；离子束的工作真空度大约为5×10-4帕；到达底部真空时间≤30分钟；

离子电源：组合电源，由阴极、阳极、屏风、加速栅格、中和耦合模块组成。