化学气相沉积设备你了解多少？

    化学气相沉积设备你了解多少？

    先让你了解一下化学气相沉积的原理，CVD技术利用气相进行化学反应来产生一种靶标反应。具体地说，将一个或多个化合物/单质气体放入反应腔进行混合，在适当的反应温度下，生成物沉积到基片上，形成薄膜样品。

    CVD法是一种常用的制膜工艺，其特点是易于得到高纯度的产品。在新材料合成领域中有着广泛的应用。

    CVD系统分为真空回路、反应室和加热反应炉。

    CVD系统主要由加热反应炉组成。当前，该实验室需要一个高温源(大炉)和一个低温源(小炉)。小型炉用来蒸发较低蒸发温度的反应物，大炉用来蒸发高蒸发温度的反应物。另外，样品基体也放置在大的炉子中。

    温控装置可控制加热炉加热及保温时间。设定程序后，可自动控制加热程序，自动切断电源。

    反应堆室

反应腔采用耐高温石英长圆管制造。在其两端设有气路接口，用于连接真空泵、风速仪、洗气路等。

    真正的空气。

三通接口与反应室接口相连，一出口与真空泵阀相连，另一接口连接洗涤气路。

本发明是将真空泵与供气回路结合，向排放室注入惰性气体，从而降低了反应室的残氧含量。

风速仪可以精确控制进入反应腔内的气流，在常压下，把反应物输送到合适的温度区，产生化学反应，从而在样品基板上沉积产物。