化学气相沉积设备你了解多少?
化学气相沉积设备你了解多少?
先让你了解一下化学气相沉积的原理,CVD技术利用气相进行化学反应来产生一种靶标反应。具体地说,将一个或多个化合物/单质气体放入反应腔进行混合,在适当的反应温度下,生成物沉积到基片上,形成薄膜样品。
CVD法是一种常用的制膜工艺,其特点是易于得到高纯度的产品。在新材料合成领域中有着广泛的应用。
CVD系统分为真空回路、反应室和加热反应炉。
CVD系统主要由加热反应炉组成。当前,该实验室需要一个高温源(大炉)和一个低温源(小炉)。小型炉用来蒸发较低蒸发温度的反应物,大炉用来蒸发高蒸发温度的反应物。另外,样品基体也放置在大的炉子中。
温控装置可控制加热炉加热及保温时间。设定程序后,可自动控制加热程序,自动切断电源。
反应堆室
反应腔采用耐高温石英长圆管制造。在其两端设有气路接口,用于连接真空泵、风速仪、洗气路等。
真正的空气。
三通接口与反应室接口相连,一出口与真空泵阀相连,另一接口连接洗涤气路。
本发明是将真空泵与供气回路结合,向排放室注入惰性气体,从而降低了反应室的残氧含量。
风速仪可以精确控制进入反应腔内的气流,在常压下,把反应物输送到合适的温度区,产生化学反应,从而在样品基板上沉积产物。
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