离子束刻蚀机

      离子束刻蚀，又称离子束腐蚀，是指当高能离子与固体靶材碰撞时，能量从入射离子向固体表面原子的转移。若固态表面原子之间的结合能力低于入射离子能量，则固态表面原子将被分离或去除。常用的离子来自惰性气体。

      离子束蚀刻机分辨率高，可以蚀刻小图形。离子束加工孔的优点是孔壁光滑，对周围应力和损伤，可加工各种形状的孔，其形状仅取决于面罩的孔型。纳米缝制是微加工的必要条件。需要10纳米碳膜时，用电子束蒸1/60/40金铝膜。样品放入离子束刻蚀机真空系统，使样品表面自然形成被污染的防腐面罩，用电子束暴露出影子，形成线宽8nm的图形，用离子束腐蚀，离子束流密度为0.1mA/cm，离子能量为1keV，另一个是线宽8nm，深宽比为2.5:10。

       四氟碳中的氟离子通过高频刺激在真空中产生辉煌的放电，使化学活性颗粒与蚀刻材料发生化学反应，产生辉煌的蚀刻物质。为了保证氟离子浓度和腐蚀速度，必须加入一定比例的氧气产生二氧化碳。太阳能电池板周围有P-N结腐蚀，离子束腐蚀机打开太阳能电池板周围。在半导体技术中，去除多晶硅、氮化硅等。

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