公司产品-北京创世威纳科技有限公司

ICP-5101型：氯基专用刻蚀设备，耐...

名称：ICP-5101型：氯基专用刻蚀设备，耐氯基强腐蚀气体，带单片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：耐氯基强腐蚀气体，带单片送取样
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ICP-5100型：耐氟基或更弱腐蚀性气体...

名称：ICP-5100型：耐氟基或更弱腐蚀性气体，带单片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：耐氟基或更弱腐蚀性气体，带单片送取样室（Lo
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ICP-8100型：耐氟基或更弱腐蚀性气...

应用方向：科研与教学产品优势：耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取样室（Load-Lock）产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蚀材料：包括并不限于单晶硅
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ICP-8101型：氯基专用刻蚀设备，耐氯...

名称：ICP-8101型：氯基专用刻蚀设备，耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室
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ICP-1201型：耐氟基或更弱腐蚀性气...

名称：ICP-1201型：耐氟基或更弱腐蚀性气体，刻蚀大尺寸片状样品应用方向：科研与小批量生产产品优势：耐氟基或更弱腐蚀性气体，刻蚀大尺寸片状样品产品配置：★
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DISC-RIE-8101型反应离子刻蚀机

名称：DISC-RIE-8101：氯基专用刻蚀设备，刻蚀速率控制方便，耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀速
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DISC-RIE-8100：刻蚀速率控制方...

名称：DISC-RIE-8100：刻蚀速率控制方便，耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀速率控制方便，
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DISC-RIE-601型反应离子刻蚀机

特点：DISC-RIE-601：刻蚀缓慢好控制，耐氟基或更弱气体腐蚀名称：DISC-RIE-601：刻蚀缓慢好控制，耐氟基或更弱气体腐蚀应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀缓慢好控制，耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置：★样片数量及尺
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RIE-400型反应离子刻蚀机

名称：RIE-400型：去胶+修胶+刻蚀，针对大尺寸片状样品应用方向：批量生产产品优势：去胶+修胶+刻蚀，针对大尺寸片状样品产品配置：★样片数量及尺寸：1片45
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RIE-601反应离子刻蚀机

特点：RIE-601型：刻蚀缓慢好控制，耐氟基或更弱腐蚀性气体应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀缓慢好控制，耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置：★样片数量及尺寸：
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RIE-5100型反应离子刻蚀机

特点：RIE-5100型：刻蚀速率控制方便，耐氟基或更弱腐蚀性气体，带单片送取样室（Load-Lock）生产厂家|价格|品牌-北京创世威纳科技应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀速率控制方便，耐氟基或更弱腐蚀性气体，带单片送取样室（Load-Lock）产品配置：★样片数量及尺寸：
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RIE-5101型反应离子刻蚀机

特点：氯基专用刻蚀设备，刻蚀速率控制方便，耐氯基强腐蚀气体，带单片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀速率控制方
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