公司产品-北京创世威纳科技有限公司

DISC-SP-3200型磁控溅射镀膜机

特点：DISC-SP-3200型：倾斜共溅射，单片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：倾斜共溅射，单片送取样室（Load-Lock）
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DISC-ICP-8100型感应耦合等离子...

特点：耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取样室（Load-Lock）；应用方向：科研与教学产品优势：耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取样室（Load-Lock）
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DISC-ICP-601型感应耦合等离子体刻蚀机

特点：DISC-ICP-601:耐氟基或更弱气体腐蚀应用方向：科研与教学产品优势：耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蚀材料：包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、
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DISC-IBE-150C/200C型离子...

特点：DISC-IBE-150C/200C型：负角度刻蚀降低反污染，热态、冷态两种中和系统，腔体前后开门应用方向：科研与教学产品优势：负角度刻蚀降低反污染，热态、冷态两种中和系统，刻蚀腔体前后开门产品配置：★离子源种类：考夫曼离子源★离子源口径：Φ160mm/22
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DISC-RIE-601反应离子刻蚀机

特点：DISC-RIE-601：刻蚀缓慢好控制，耐氟基或更弱气体腐蚀应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀缓慢好控制，耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蚀材料：包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、S
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DISC-ICP-8101型感应耦合等离子...

特点：DISC-ICP-8101：氯基专用刻蚀设备，耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蚀材料：包括并不限于GaN、Ga
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DISC-RIE-8100型反应离子刻蚀机

特点：DISC-RIE-8100：刻蚀速率控制方便，耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀速率控制方便，耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取样室（Load-Lock）产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蚀材料：
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DISC-RIE-8101型反应离子刻蚀机

特点：DISC-RIE-8101：氯基专用刻蚀设备，刻蚀速率控制方便，耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：刻蚀速率控制方便，耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蚀材料：
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DISC-ICP-8100型感应耦合等离子...

特点：DISC-ICP-8100型：耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取样室（Load-Lock）名称：DISC-ICP-8100型：耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：耐氟基或更弱腐蚀性气体，带双片送取
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感应耦合等离子体刻蚀机 DISC-ICP-...

名称：DISC-ICP-8101：氯基专用刻蚀设备，耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）应用方向：科研与教学产品优势：耐氯基强腐蚀气体，带双片
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DISC-ICP-601:耐氟基或更弱气体腐蚀

名称：DISC-ICP-601:耐氟基或更弱气体腐蚀应用方向：科研与教学产品优势：耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蚀材料：包括
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感应耦合等离子体刻蚀机ICP-601型

名称：ICP-601型：耐氟基或更弱腐蚀性气体刻蚀机应用方向：科研与教学产品优势：耐氟基或更弱腐蚀性气体产品配置：★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蚀材料：包
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