北京创世威纳科技有限公司
公司、研究所用户：
王总： 139-1055-5133
大专院校用户：
初经理：132-6456-0630
王经理：13439433628
企业邮箱：chuangshiweina@sina.com
地址：北京市昌平区回龙观北京国际信息产业园高新二街2号4层
特点：大尺寸片状样品去胶 ，均匀性高 应用方向：科研与教学产品优势：大尺寸片状样品去胶 ，均匀性高产品配置：★样品数量及尺寸：1片Φ6英寸（或以下）★腔体：低真空系统★刻蚀材料：光刻胶、聚酰亚胺、S
特点：效率高，多片同时去胶 应用方向：批量生产产品优势：高效率，多片同时去胶产品配置：★样品数量及尺寸：15-20片Φ6英寸（或以下）★腔体：低真空系统★刻蚀材料：光刻胶等材料★去胶速率：
